第四届SiAlON和非氧化物陶瓷国际研讨会_中国硅酸盐学会 - 学术活动
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第四届SiAlON和非氧化物陶瓷国际研讨会
2013-12-23 | 编辑:enablesite | 【
会议概述
继2001年、2007年和2010年成功举办三届研讨会后,第四届SiAlON和非氧化物陶瓷国际研讨会(ISSNOX4)将于2014年5月25日-28日在日本滋贺县长滨市大岛镇(Oshima Town, Nagahama City, Shiga 526-0066, JAPAN)举行。本次研讨会将为与会者就SiAlON和非氧化物陶瓷的研究和应用最新进展提供一个广泛的交流平台,并还将聚焦在能源和环境领域中的非氧化物陶瓷的新工艺和新应用。
会议主题
新SiAlON、新氮化物和新碳化物陶瓷
前驱体法制备非氧化物陶瓷
陶瓷粉体工艺
微结构设计与调控
纳米和微米复合材料
多孔非氧化物陶瓷
SiAlON和非氧化物功能陶瓷
SiAlON和非氧化物陶瓷应用
环境相关的非氧化物陶瓷
会议语言
会议官方语言为英语。所有会议材料、报告及讨论均使用英语。
 
会议主办者
JSPS 124th Committee on Advanced Ceramics
Engineering Ceramics Division, the Ceramic Society of Japan
 
会议协办者
the Ceramic Society of Japan
the American Ceramic Society
the European Ceramic Society
the Korean Ceramic Society
the Australian Ceramic Society
the Indian Ceramic Society
the Chinese Ceramic Society
World Academy of Ceramics
 
会议主办方联系方式
需要咨询更多会议信息,请联系:issnox4@ml.ynu.ac.jp
 
重要时间节点
2014年1月15日:摘要投稿截止日期。
2014年5月25日:ISSNOX4研讨会举行日期。
 
关于会议注册
有参会意向者请于2014年4月10日前提交填写好的会议注册表格并发送至如下地址:
Dr. Junichi Tatami
Graduate School of Environment and Information Sciences
Yokohama National University
 
关于注册费用
一般代表:50,000日元
学生代表:15,000日元
 
关于注册费用支付
所有费用均需采用信用卡支付(VISA或MasterCard)。支付截止日期为2014年4月10日。网络支付平台即将开启。
 
关于取消注册
所有关于取消会议注册的请求必须以书面的形式于2014年5月10日之前提交至会议主办方。过此期限将不再退还会议注册费。
 
关于提交摘要
有参会意向者请于2014年1月15日之前将200字左右的英文摘要发送至如下地址:
Prof. Junichi Tatami
Yokohama National University, Japan
 
关于摘要格式
摘要请按照如下格式,以12号Times New Roman字体进行撰写:
第一行:报告题目
第二行:作者姓名(会议做报告者以* 标示)
第三行:作者单位,单位地址,邮政编码,国家
第四行:会议做报告者Email地址
第五行:摘要正文
请参会者在摘要中注明采用以下何种方式交流:口头报告 (Oral presentation) 还是墙报展示 (poster presentation)?
 
口头报告方式
参会者可以使用自己的PC或USB设备,会议为参会者准备了可播放Microsoft Office文件的数据投影仪。
会议地点及住宿
Nagahama Royal Hotel(长滨皇家酒店)
8 Oshima, Oshima Town, Nagahama City, Shiga 526-0066, Japan(日本滋贺县长滨市大岛镇大岛8号)
Tel: +81-749-642000, Fax: +81-749-642005
酒店的网络预订即将开启。
 
签证申请
与日本没有免签证入境协议的国家的参会者请在本国的日本大使馆或领事馆办理签证申请。如需签证申请所需要的相关文件,敬请联系:issnox4@ml.ynu.ac.jp
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